銅管除油清洗劑-環(huán)保型工業(yè)清洗解決方案
深圳市羽杰科技有限公司研發(fā)的MLJ-1231銅管除油清洗劑是一款環(huán)保產品,專為空調制造、汽車散熱系統(tǒng)、精密儀器等行業(yè)的銅管及銅合金零部件清洗而設計。該產品采用水基配方技術,通過符合歐盟RoHS指令和REACH法規(guī)要求,滿足醫(yī)藥/食品工業(yè)級的嚴苛安全標準。
198羽杰科技 YJ-1011 換熱器清洗劑:高效清潔衛(wèi)士,環(huán)保安全守護銅換熱器
您的換熱器是否正遭受污垢的困擾?結垢導致的換熱效率下降、能耗激增、甚至設備故障,是否讓您倍感壓力?羽杰科技專為工業(yè)及暖通領域打造的 YJ-1011 換熱器清洗劑,正是解決這些痛點的專業(yè)高效方案。它不僅擁有卓越的清洗能力,更以環(huán)保安全、絕不傷害銅管為核心優(yōu)勢,成為設備維護的理想選擇。
276綠色革命:羽杰科技水性切削液如何實現(xiàn)高效環(huán)保與人體安全雙贏
在金屬加工行業(yè),傳統(tǒng)切削液帶來的環(huán)境污染和操作人員健康問題長期困擾著生產企業(yè)。隨著環(huán)保法規(guī)日益嚴格和“綠色制造”理念的普及,深圳羽杰科技推出的新一代水性切削液正以革命性的環(huán)保配方和人體安全特性,成為行業(yè)轉型升級的關鍵助力。
391羽杰科技食品罐清洗劑
MLJ-3383 是羽杰科技采用進口陰離子表面活性劑與非離子表面活性劑為主 要原料,采用國際最新高科技化工清洗配方,專為食品加工行業(yè)研發(fā)的一種高效 節(jié)能環(huán)保型清洗劑,聚焦解決食品罐、管道、灌裝設備等復雜場景的衛(wèi)生清潔需 求, 通過無強堿(不含 NaOH/KOH)強酸(鹽酸、硝酸、硫酸)與多材質兼容性 設計,兼顧環(huán)保于去污效率、設備保護與操作安全,助力企業(yè)實現(xiàn)綠色生產合規(guī) 是企業(yè)首選清洗液。
419掩膜版專用清洗劑 MLJ-2508D
羽杰科技研發(fā)生產的光學掩膜版除膠清洗劑 MLJ-2508D 是一款 專為光學掩膜版清除光刻膠,高精密光學及半導體行業(yè)設計的環(huán)保型 清洗劑。產品采用創(chuàng)新配方,摒棄傳統(tǒng)清洗劑中常見的丙酮、異丙醇、 強酸強堿等有害成分,清洗劑萬級無塵車間生產,經過微米級過濾, 產品品質佳無污染離子、雜質影響。
717超薄均熱器件清洗劑-羽杰科技SLJ-C2120
羽杰科技SLJ-C2120超薄均熱器件清洗劑具備強大的去污能力,能夠迅速瓦解并清除均熱器件表面因各類污垢。無論是灰塵、油污,還是因高溫產生的氧化物,該清洗劑都能精準出擊,實現(xiàn)深度清潔。在超聲清洗清洗過程中,清洗劑中的活性成分可快速滲透到污垢與器件表面的微小縫隙中,將污垢從器件表面剝離,清洗后不會出現(xiàn)白點、變色、發(fā)白等腐蝕現(xiàn)象,全方位守護均熱器件的物理性能與外觀完整性。
795鋁散熱器松香助焊劑清洗劑-工業(yè)清洗解決方案
羽杰科技MLJ2506鋁散熱器清洗劑是一款專為鋁制散熱器及電子元件松香助焊劑殘留設計的高效水性清洗劑。憑借其獨特的配方和環(huán)保特性,該產品在工業(yè)清洗領域迅速嶄露頭角,尤其適用于汽車散熱器、電子電路板(PCBA)等場景,能快速溶解頑固污垢、松香樹脂及氧化物殘留,同時兼顧設備保護與環(huán)保要求。
564新能源電機外殼清洗劑MLJ-3383:羽杰科技環(huán)保型替代傳統(tǒng)碳氫溶劑
隨著新能源汽車、風力發(fā)電等產業(yè)的爆發(fā)式增長,電機外殼表面油污、金屬粉塵的清潔需求激增。傳統(tǒng)碳氫清洗劑因高VOC排放、難降解等問題,已無法滿足"雙碳"政策下的環(huán)保要求。羽杰科技自主研發(fā)的MLJ-3383新能源電機外殼專用清洗劑,以可生物降解配方+高效除油除灰性能,正在成為工業(yè)清洗領域的革新解決方案。
667羽杰科技MLJ-3388生物降解型噴淋清洗劑
傳統(tǒng)工業(yè)清洗劑普遍存在含磷含氮化合物超標、COD值超5000mg/L等問題,導致廢水處理成本高。隨著《中國清潔生產促進法》新規(guī)實施,2025年起高污染清洗劑將被限制使用。羽杰科技MLJ-3388噴淋清洗劑通過水基配方+生物酶催化技術,實現(xiàn)清洗廢水的COD值≤800mg/L,生物降解率達95.3%(OECD 301B標準)。
856羽杰科技MLJ-2508光刻膠清洗劑:國產替代新突破,5大核心技術助力芯片良率提升
在半導體制造工藝中,光刻膠殘留清洗直接關系到芯片的良品率。傳統(tǒng)清洗劑存在清洗效率低(<85%)、晶圓損傷率高(≥0.3%)等問題。羽杰科技MLJ-2508光刻膠清洗劑專為28nm以下先進制程設計,經實驗室驗證,清洗效率達98.7%,殘留量控制在0.01μm2/片以內。核心技術優(yōu)勢解析。
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